keskitaajuinen magnetronin sputteroiva virtalähde

Keskitaajuisen magnetronin sputteroivan tehonsyötön syntyminen johtuu pääasiassa kohteen myrkytyksestä ja kaarisytytyksestä tasavirtareaktiivisen sputteroinnin aikana. Kaaren sputterointi ei ilmene pelkästään reaktiivisessa sputteroinnissa, vaan sitä voi tapahtua myös metallien dc-sputteroinnissa, mistä johtuen pinnoitteen pintamorfologia ei ole riittävän tiheä, mikä vaikuttaa vakavasti järjestelmän vakauteen ja kalvon laatuun. Keskitaajuuksinen sputterointivirtalähde, jossa kaksi sputterointitavoitetta on kuormana, kaksi tavoitetta toimivat vuorotellen, joten sputterointi kohdistaa sputterointijaksoon, joka on yli puolet ajasta käänteisjännitteestä sputteroimalla, tyhjentää kertyneen varauksen kokonaan kohdemateriaalin pinnalle, on hyödyllistä hillitä kaaripurkausta ja kohdemyrkytyspintaa, erityisesti sopivaa reaktioympäristöön kalvokerrosta käyttämällä.
Verrattuna tasavirtalähteeseen, jos virtalähteellä on myös taajuuden ja käyttöjakson säätöfunktio (vain neliöaaltoulostyyppi), näillä kahdella parametrilla on myös tärkeä vaikutus pinnoitusprosessiin.

IKS PVD -yritys, koristeellinen päällystyskone, työkalujen päällystyskone, optinen pinnoitusmacine, PVD-tyhjiölasituslinja.Ota meihin yhteyttä, sähköposti: iks.pvd@foxmail.com