Innovaatio ja mahdollisuus korkean ionisaation pulssin ruiskutustekniikkaan
Dec 27, 2024| Innovaatio ja mahdollisuus korkean ionisaation pulssin ruiskutustekniikkaan
Nykyisen tekniikan on vaikea tehdä suurta läpimurtoa tiheämmän ja korkeamman suorituskyvyn koriste -kalvon tallettamisessa säätämällä prosessiparametreja. Korkea ionisaationopeus pulssi ruiskutus (HIPMS) on noussut uudeksi tekniikaksi. Teknologialla on korkea plasmatiheys, sputteroitujen materiaalien korkea ionisaatioaste, korkea keskimääräinen ionin varausluku, korkea ionienergia ja suuri osa kalvojen muodostavista ioneista. HPPMS-tekniikan laatimaa kalvoa pommittaa korkean energian ionit, siinä on vähemmän vikoja, sileä pinta ja tiheämpi, ja sen kovuus, sitoutumisvoimassa, kulutuskestävyys, korroosionkestävyys ja korkean lämpötilan hapettumiskestävyys on erinomainen suorituskyky. Tämän tekniikan jatkuvan kehityksen ja parantamisen myötä sen odotetaan edistävän sputteroiva pinnoitustekniikkaa uuden harppauksen saavuttamiseksi ja avaamaan laajemman kehitystilan koriste -elokuvatekniikan pinnoitukselle.
Yhteenvetona voidaan todeta, että koristeellisen elokuvatekniikan pinnoittaminen kohtaa monia haasteita jatkuvassa kehitysprosessissa, mutta perusteellisen tutkimuksen ja erilaisten aiheiden innovatiivisen tutkimuksen avulla sen odotetaan saavuttavan tulevaisuudessa lisää läpimurtoja ja tekniikan parannuksia, vastaavat kasvavia markkinoiden kysyntää ja edistävän liittyvien toimialojen kestävää kehitystä.
IKS PVD -yhtiö, koristeellinen pinnoitekone, työkalujen pinnoituskone, DLC-pinnoitekone, optinen pinnoitekone, PVD-tyhjiöpinnoituslinja, käännösavaimen projekti on saatavana. Ota yhteyttä nyt, sähköposti: iks.pvd@foxmail.com