Mikroaaltoelektronisyklotroniresonanssi plasmalla tehostettu kemiallinen höyrypinnoitus (MWECR-PECVD)

MWECR-PECVD käyttää mikroaalto- ja magneettikentässä olevien elektronien syklotroniresonanssivaikutusta erittäin aktiivisen ja tiheän plasman muodostamiseen tyhjiöolosuhteissa kaasufaasikemiallista reaktiota varten. Tekniikka korkealaatuisten kalvojen muodostamiseen matalissa lämpötiloissa. Tämän menetelmän plasma tuotetaan sähkömagneettisen aallon virityksellä, ja sen yhteinen taajuus on 2450 MHz. Sähkömagneettisten aaltojen fotonien energiaa muuttamalla voidaan suoraan muuttaa kaasun hiukkasiksi hajoamisen energiaa ja elinikää, millä on merkittävä vaikutus kalvon syntymiseen ja kalvon pinnan käsittelymekanismiin, ja se määrittää olennaisesti kalvon rakenteen, luodun kalvon ominaisuudet ja stabiilisuus

IKS PVD-yritys, koristepinnoituskone, työkalujen päällystyskone, DLC-pinnoituskone, optinen päällystyskone, PVD-tyhjiöpinnoituslinja, avaimet käteen -projekti on saatavilla. Ota meihin yhteyttä nyt, sähköposti: iks.pvd@foxmail.com