PVD-pinnoituskäsittely alumiiniseoksesta
Jun 04, 2018| Alumiiniseosmuottien valumuottien epäonnistumisen tapahtuessa PVD-pinnoitus on erittäin hyvä suojausmenetelmä sille. Seuraavassa taulukossa on esitetty PVD-päällysteen suojaava vaikutus alumiiniseoksisiin painevalumuottiin.
| pinnoite | Väri | ominaisuudet |
| CRN | Hopea | Kromilla on liima-aineet ja se on hyvä este alumiiniläpäisevyydelle. CRN pinnoitteella on erinomainen korkean lämpötilan kestävyys (noin 800 ° C), korroosionkestävyys ja nitridointiresistenssiä, ja sillä on myös hyvä hitsauskestävyys ei-rautametalleille. |
| TiAlN | Violetti | Koska TiAlN-pinnoite sisältää alumiinia, pinnoitteella ei ole vain korkean lämpötilan hapettumista (noin 800 ° C ), mutta se voi myös tarjota optimaalisen suojan työkalun alle kuiva tai nopeat olosuhteet. Lisäksi huonon lämmönjohtavuuden vuoksi alumiinipuristusta voivat estää lämmön johtamisen muottimateriaaliin, jotta se voi estää halkeamia muotissa. |
| Tina | Kulta | TiN-pinnoitteella on hyvä korkean lämpötilan kestävyys (noin 600 ° C), korroosionkestävyys ja kulutuskestävyys, mutta muottien suojaus ei ole yhtä hyvä kuin muut päällysteet. |
| AICrN | Musta | AlCrN-pinnoitteella on etuja hapettumisresistenssin, korkean lämpötilan kestävyyden (n 1100 ° C), kulutuskestävyys ja kovuus. Joten se soveltuu hyvin muotin ydin, liukusäädin, insertti, työnnä tappi ja muut muovausosat, suorituskyky on erittäin hyvä. |
Pinnoituksen menetelmää käytetään yleensä estämään alumiiniseoksen kalsinamuotin halkeilu ja pidentävät pitkälti muotin käyttöikää. Päällysteen valinnan on kuitenkin noudatettava joitain periaatteita:
1. Pinnoite voi kestää korkeita lämpötiloja.
2. Pinnoitteella on korkea kemiallinen stabiilisuus eikä se reagoi alumiiniseoksen kanssa.
3. Pinnoite on hyvin tiheä ja se voi estää A1-atomin diffuusiota.
Pinnoitteista CrN ja AlCrN ovat parhaita valintoja. Ne kestävät 700 ° C: n korkean lämpötilan ja suuren kemiallisen inertiteetin. Myös nämä kaksi pinnoitetta ovat hyvin tiheitä muodostamaan tiukka suojakerros muotin pinnalle estääkseen AI-atomien tunkeutumisen alustaan.