Tärkeimmät parametrit, jotka vaikuttavat sputterointiin
Jun 09, 2018| 1. Sputtering Threshold
Minimaalinen energia-arvo, joka tarvitaan satunnaisten atomien pois leviämiseen, ei liity tulevien ionien tyyppiin vaan liittyy kohteeseen. Kun energian määrä ylittää sputterointikynnyksen, sputterointituotto on verrannollinen ionionergian neliöön ennen 150 um, kun ionienergiamäärä kasvaa ja sputterointisuhde on verrannollinen ionionergiin välillä 150 - 1 kev. Alueella 1 kev ~ 10 kev, sputtering tuotto muuttuu hieman. Kun energiaa nostettiin jälleen, sputterointituotto osoitti laskevaa suuntausta. Seuraavat ovat useiden metallien pinoamien metallien sputterointikynnysarvot erilaisilla tapahtumien ioneilla.
| Metalli | Ion Sputtering threshod / eV | Sublimoitumislämpö / eV | |||
| Ne | ar | kr | Xe | ||
| ti | 22 | 20 | 17 | 18 | 4,40 |
| op | 22 | 22 | 18 | 20 | 5.28 |
| Fe | 22 | 20 | 25 | 23 | 4.12 |
| cu | 17 | 17 | 16 | 15 | 3,53 |
| zr | 23 | 22 | 18 | 25 | 6.14 |
| Ag | 12 | 15 | 15 | 17 | 3,35 |
| au | 20 | 20 | 20 | 18 | 3.20 |
2. Sputtering tuotto
Sputterointituotto tarkoittaa atomien keskimääräistä lukumäärää kohti positiivista ioniä, joka voidaan lähettää kohteesta, kun ioni-ioneja pommitetaan kohteeseen. Vaikutustekijöitä ovat lähinnä seuraavat näkökohdat:
◆ Sputteroinnin tuotto osoittaa tiettyä aikajaksoa tavoitteen atomimäärän muutoksen mukaan. Kohde-atomin d-kuoren elektronin täyttöasteen kasvaessa sputterointituotanto kasvaa (karkeasti muuttuva trendi).
◆ Vaaratilanteen ionin laji vaikuttaa pirstoutumiseen
Sputterointituotto kasvaa määräajoin kasvaneen tapahtumien atomimäärän mukaan.
Hopean, kuparin ja tantaalin sputterointituotto, joka vastaa lukuisia 45 Kev: n esiintyviä ioneja.
◆ Ionisukelluskulman vaikutus sputterointituottoon
Samalle tavoite- ja tapahtuma-ionille suihkupuhdistuksen määrä kasvaa, kun ionin tulokulma kasvaa. Kun kulma kasvaa 70 ° - 80 °, sputterointisuhde on suurin. Jatkotaulokulman lisäämistä, sputterointituottoa pienennetään voimakkaasti ja sputterointituotto on 0 900 °.
◆ Koholämpötilan vaikutus sputterointituottoon
Yleensä lämpötila-alueella, jossa sputterointituotteen voidaan katsoa liittyvän läheisesti sublimoitumisenergiaan, sputterointituotos tuskin muuttuu lämpötilan mukaan. Jos lämpötila ylittää tämän alueen, sputteroinnin tuotto kasvaa nopeasti.
