HIPIMS-teknologian lyhyt esittely

Magnetron-sputterointitekniikkaa käytetään laajasti pinnoitekentän alalla. Sitä käytetään yleisesti sekä koristepinnoitteisiin että työkalujen päällystyssovelluksiin. Mutta magnetronin sputterointitekniikoissa on vielä monia rajoituksia. Esimerkiksi magnetronin sputterointitavoitteiden tehotiheys vaikuttaa kohdelämpökuormaan. Suurten sputterointivirran alla liialliset positiiviset ioneja pommit tavoite, joka voi aiheuttaa sputterointitavoitteen ylikuumenemisen ja polttamisen, lisäksi sputteroinnin energia on rajallinen ja metallin ionisaatiovirta ei ole korkea.

Viime vuosina on kehitetty suuritehoinen pulssi magnetronisputtering (HiPIMS) -tekniikka kotimaassa ja ulkomailla, mikä heikentää merkittävästi näitä rajoituksia. HiPIMS: n huipputeho on noin 100-kertainen tavanomaisen magnetronisputterointin suhteen ja sputterointimateriaalilla on erittäin korkea ionisaatiokertoisuus, myös tämä erittäin ionisoitu säde ei sisällä suuria hiukkasia, minkä vuoksi HiPIMS: stä voidaan helposti saada korkealaatuinen kalvokerros .

Koska pulssitoiminta-aika on muutama sata mikrosekuntia, HiPIMS: n keskimääräinen teho on sama kuin tavallisen magnetronisputteroinnin, joten magnetronin tavoitteen jäähdyttämisvaatimusta ei lisätä. Vaikka suuritehoisen pulssitun magnetronin sputteroinnin hetkellinen teho on hyvin korkea, sen keskimääräinen teho ei ole liian korkea, joten sitä voidaan edistää laajalti.