Korkean puhtauden tasainen sputterointitavoite
Korkealaatuinen tasomainen sputterointikoe IKS tarjoaa korkealaatuisia tasomaisia sputterointitavoitteita monenlaisille sovelluksille ferromagneettisille, monimutkaisille oksideille ja puolijohdelevyille. Tavoitteenamme on tarjota erilaisia puhtaustasoja, jotka sopivat sinun erityisvaatimuksiisi mahdollisimman vähäisiksi ...
- Tuotteen esittely
Korkealaatuinen tasomainen sputterointikohde
IKS tarjoaa laadukasta tasomaiset sputterointitavoitteet monenlaisille sovelluksille ferromagneettisille, kompleksisille oksideille ja puolijohdelevyille. Tavoitteenamme on tarjota erilaisia puhtaustasoja joka sopii erityisvaatimuksiisi puhtaimpien elementtien ja seosten 99,5% ja 99,99% puhtauden mukaan.
Kehittyneiden kuuman isostaattisen puristuksen (HIP), tyhjösitteroinnin ja alipaineen sulatustekniikan ansiosta IKS: n tasomaiset sputterointikohteet ovat ominaisia erittäin puhtaasta, suuresta tiheydestä, homogeenisesta koostumuksesta, hienojakoisesta raekokoosta ja pitkästä käyttöiästä. Seuraamme jokaista askelta (raaka-aineista valmiisiin tuotteisiin) varmistaaksemme, että vain korkealaatuiset kohteet voidaan toimittaa tehtaistamme.
IKS valmistaa kaikenlaisia korkealaatuisia tasomaisia kohteita. Kerro meille tarvittavat materiaalit ja mittasuhteet ja täytämme erityisvaatimuksesi.
Tärkeimmät tuotteet:
materiaali | Symboli | Atomic Ratio | Puhtaus | Suhteellinen tiheys | Varastojen mitat | tekniikka | ominaisuudet |
Kromi | op | _____ | 99,5% ~ 99,95% | > 99% | 750x125x10mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Hyvä hapettumisresistanssi |
Volframi | W | _____ | 99,9% ~ 99,95% | > 99% | 750x125x10mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Korkea kova |
Titaani | ti | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Hyvä kulutuskestävyys |
Nikkeli | ni | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Suuri korroosionkestävyys |
molybdeeni | mo | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Suuri korroosionkestävyys |
pii | Si | _____ | 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Vacuum Sintering | Korkea kova |
Hopea | Ag | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Hyvä sähkö- ja lämpöjohtokyky |
tantaali | ta | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Suuri sitkeys |
Kupari | cu | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Korkea virtauskyky, hyvä lämmönjohtavuus ja korroosionkestävyys |
Grafiitti | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Vacuum Sintering | Korkea kova | |
Alumiini | Al | _____ | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Tyhjiön sulaminen | Hyvä virtauskyky, lämmönjohtavuus ja korroosionkestävyys |
Pii-alumiini | SiAI | 25/75 30/70 40/60 50/50 | 99,9% ~ 99,99% | > 99% | 750x125x10mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Korkea suutuvuus ja hyvä kulutuskestävyys |
Titaani-alumiini | TiAl | 30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20 | > 99,7% (2N7) | > 99% | 754x154x18mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Korkea mekaaninen lujuus ja hyvä korroosionkestävyys |
Kromi-alumiini | CRAL | 25/75 30/70 40/60 50/50 | > 99,7% (2N7) | > 99% | 754x154x18mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Hyvä hapettumisvastus ja korroosionkestävyys |
Titaani-alumiini-pii | TiAlSi | 30/60/10 40/50/10 | > 99,7% (2N7) | > 99% | 754x154x18mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Korkea kovuus ja sitkeys |
Kromi-alumiini-pii | CrAlSi | 30/60/10 40/50/10 | > 99,7% (2N7) | > 99% | 754x154x18mm | Hot isostaattinen puristus (HIP) | Hyvä hapettumisvastus ja korroosionkestävyys |
Lisää tietoa:
Sertifiointi: ISO9001
Keskimääräinen raekoko: 30-40μm (kansallinen standardi on 100μm)
Muoto: suorakulmaiset kohteet, Pyöreä kohde
Muut erikoisvaatimukset ovat saatavilla asiakkaan pyynnöstä.
TiAl-sputterointikohteen laatuanalyysi
(Ota TiAl 30/70 näytteenä%: ksi)
Pääkomponentti (paino%) | Epäpuhtauspitoisuus (%) | |||||
TiAl | C | N | O | Fe | Si | S |
> 99,7 | 0,01 | 0,006 | 0,2 | 0,06 | 0,02 | 0,002 |
ti | Al | |||||
46,87% | saldo | |||||
Mitat: 754x154x18mm
Todellinen tiheys: 3,31 (g / cm3)
Teoreettinen tiheys:> 99%
Planar targetin keskimääräinen raekoko on 30-40 μm, joka on paljon alle kansallisen standardin (100 μm).
IKS-edut:
● Erilaisia materiaaleja, kuten: hopea, titaani, alumiini, silikoni, silikoni-alumiini titaani-alumiini-pii, grafiitti ja niin edelleen tarpeidesi mukaan.
● Uskomattoman pienen raekoko ja yhtenäinen mikrorakenne takaavat yhtenäisen prosessin suorituskyvyn koko eliniän päättyessä.
● Täydellinen homogeenisuus ja korkeat tavoitetasot takaavat, että päällystysprosessi on vakaampi ja kerrostetut kerrokset ovat korkealaatuisempia.
● Erinomainen tiheys varmistaa, että pinnoitusprosessi voi hyötyä erityisen korkeasta johtokyvystä
● Ihmeet sputterointinopeudet suuren tiheyden ansiosta voivat säästää enemmän aikaa.
sovellus:
Viime vuosina sputterointia on laajalti käytetty puolijohdeteollisuus Thin Film -lasin kerrostukseen eri materiaaleista integroidussa piirikäsittelyssä, arkkitehtoninen ja autolasi energiansäästöön, värikäs koristepäällysteet laitteistoihin, kova päällystyspäällyste työkaluille ja kulutushyödykkeille sekä metallien laskeutuminen valmistettaessa CD-levyjä jne.
Kovien kulutuspäällysteiden toiminta:
Tarjoa kovia pintoja, joilla on erinomainen korroosionkestävyys ja kulutuskestävyys leikkaustyökaluilla, lävistetään ja muovatut muotit palveluaikansa lisäämiseksi. Samanaikaisesti voidaan saavuttaa korkeammat syöttönopeudet, hyvä leikkausteho ja erinomaiset metallinpoistumisnopeudet.
Myös autoteollisuudessa käytettäessä se voi tehokkaasti vähentää tarkkuuskomponenttien kitkakerrointa.
Koristepinnoitteiden toiminta:
Varmista hyvät naarmuuntumiskestävyys ja koristeelliset värikkäät viimeistelyt kovaa pinnoitusta varten matkapuhelimissa, koruja, kellot, silmälasit, autojen sisustus, kodinkoneet, kylpyhuone- ja keittiökalusteet jne.
