Käännettävissä Sputtering tavoite

Käännettävissä Sputtering tavoite

Korkea laatu käännettävissä Sputtering kohde IKS erikoistunut tuottamaan erittäin puhdasta käännettävissä katodipölyynnystä tavoitteet optimaalinen prosessi vakautta ja suorituskykyä sovellettavaksi puolijohde, fyysinen höyry laskeuman (PVD) näyttö ja optisen alan. Tavoitteemme on tarjolla teidän...

  • Tuotteen esittely

 

Korkea laatu Käännettävissä Sputtering tavoite

IKS erikoistunut tuottamaan erittäin puhdasta käännettävissä katodipölyynnystä tavoitteet optimaalinen prosessi vakautta ja suorituskykyä sovellettavaksi puolijohde, fyysinen höyry laskeuman (PVD) näyttö ja optisen alan. Tavoitteemme on tarjolla erityisiä vaatimuksia 99,5 % puhtaus vähintään 99,99 % puhdasta elementtien ja seokset.


Kuuma isostaattisen painamalla (lonkka) ja tyhjiö sulaa huipputeknologiaa antaessaan käännettävissä katodipölyynnystä tavoitteet IKS on ominaista korkea puhtaus, korkea tiheys, homogeeninen kokoonpano, hieno raekoko ja pitkän käyttöiän. Seuraamme joka askeleella (vastaanotetuista raaka-aineista valmiisiin tuotteisiin) varmistaa, että vain laadukkaita tavoitteet voidaan toimittaa tehtaita.


IKS valmistaa kaikenkokoisia laadukkaita pyörivä tavoitteita. Kerro meille materiaali ja mitat mitä tarvitset ja tapaamme erityisiä vaatimuksia.

1_副本.jpg


Tärkeimmät tuotteet taulukko:

Materiaali

Symboli

Atomisuhde

Puhtaus

Suhteellinen tiheys

Tekniikka

Etu

Kromi

OP

_____

99,5 % ~99.95 %

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Hyvä hapettumisen kestävyys

Tungsten

W

_____

99,5 % ~99.95 %

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Korkea kovuus

Titaani

Ti

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Hyvä kulutuskestävyys

Nikkeli

Ni

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Hyvä korroosionkestävyys

Molybdeeni

Mo

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Hyvä korroosionkestävyys

Silicon

Si

_____

99,99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Korkea kovuus

Hopea

AG

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Hyvä sähkö- ja lämmönjohtavuus

Tantaali

Ta

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Korkea sitkeys

Kupari

Cu

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Korkea sitkeys, hyvä lämmönjohtavuus ja korroosionkestävyys

Grafiitti


_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Korkea kovuus

alumiini

Al

_____

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Tyhjiö sulaminen

Hyvä sitkeys, lämmönjohtavuus ja korroosionkestävyys

Silicon-alumiini

SiAl

25/75

30/70

40/60

50/50

99,9 % ~99.99 %

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Korkea sitkeys ja hyvä kulutuskestävyys

Titanium-alumiini

TiAl

30/70

33/67

40/60

45 tai 55

50/50

60/40

70/30

75/25 80/20

> 99.7 % (2N7)

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Korkea mekaaninen vahvuus ja hyvä korroosionkestävyys

Kromi-alumiini

CrAl

25/75

30/70

40/60

50/50

> 99.7 % (2N7)

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Hyvä hapettumisen kestävyys ja korroosionkestävyys

Titanium-alumiini-Silicon

TiAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7 % (2N7)

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Korkea kovuus ja sitkeys

Pii/alumiini/kromi

CrAlSi

30/60/10 40/50/10

> 99.7 % (2N7)

> 99 %

Isostaattisen Kuumapuristuksen (lonkka)

Hyvä hapettumisen kestävyys ja korroosionkestävyys



Lisätietoa:

Sertifiointi: ISO9001

Keskimääräinen raekoko: 30-40μm (kansallinen standardi on 100μm)

Varaston mitat: OD70xID56xL / OD100xID80xL (rajoittamaton pituus)

Muut erityiset ominaisuudet ovat saatavilla asiakkaan pyynnöstä.

2_副本.jpg3(001).jpg

4_副本.jpg5_副本.jpg


Laadun analysointiin TiAlSi Sputterointi tavoite

(Ottaa TiAlSi 30/60/10 % näyte)

Pääkomponentti (paino-%)

Epäpuhtauksien määrä prosentteina

TiAlSi

C

N

O

H

Fe

Ca

> 99.7

0.0120

0.0007

0.1995

0.0110

0.0620

0.0048

Ti

Al

Si




7,9 %

48.86 %

43.24 %





Totta, tiheys: 3.42(g/cm3)

Teoreettinen tiheys: > 99 %

6.jpg

Keskimääräinen raekoko on käännettävissä tavoitteemme on 30 40μm, mikä on huomattavasti alle kansallisen standardin (100μm).



Planar tavoitteisiin nähden käännettävissä katodipölyynnystä tavoitteet voivat:

● Alentaa omistus suuri alue pinnoite toimintaa.

● Annettava suurempi eroosio alueilla, joissa on 2-2,5 kertaa materiaalin käyttöä.

● On käyttöikä pitenee että puolestaan tulosten kauan alalla toimii ja vähentää seisokkeja ja järjestelmä.

● Lisätä läpikulkevien pinnoite laitteet.

● Voidaan käyttää valtaa tiheää asutusta, ja tämän seurauksena lisääntynyt laskeuman nopeus näkyy sekä parantaa suorituskykyä aikana reaktiivinen sputtering.

7_副本.jpg8_副本.jpg


Sovellus:

Nykyään käännettävissä kohde teknologia on laajalti käytetty laajalla alueella pinnoite valmistukseen arkkitehtuurilasin litteissä näytöissä, auringon valoenergian ja koristeellinen pinnoite. Käännettävissä tavoitteet ovat hyvin ystävällisiä koristeellinen film, joka takaa lähtöviiva resistenssi ja koriste värikäs lopettaa kova pinnoite matkapuhelimet, korut, kellot, silmälasien, automotive sisustus, kodinkoneet, terveys tavarat, laitteisto, jne.

9_副本.jpg


Lähetä kysely

(0/10)

clearall